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測殘余應(yīng)力前樣品要清洗嗎?用什么試劑不影響結(jié)果?。
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  • 為什么必須清洗?

    1.去除污染物:樣品表面可能存在的油污、油脂、切削液、指紋、灰塵、氧化膜、銹蝕、涂層、脫模劑等污染物會嚴(yán)重干擾測量。

    2.確保X射線穿透/反射:X射線衍射法測量殘余應(yīng)力依賴于X射線穿透到材料表層一定深度(通常幾微米到幾十微米)并發(fā)生衍射。污染物會:

    *吸收或散射X射線:降低衍射信號的強(qiáng)度和信噪比,使測量困難甚至無法進(jìn)行。

    *產(chǎn)生額外的衍射峰:污染物本身(如氧化物、銹層)可能產(chǎn)生衍射峰,與基體材料的衍射峰重疊或干擾,導(dǎo)致無法準(zhǔn)確識別基體材料的衍射峰位置。

    *改變有效穿透深度:污染物層會改變X射線實(shí)際到達(dá)材料表層的深度,影響測量結(jié)果的代表性和準(zhǔn)確性。

    3.暴露真實(shí)表面狀態(tài):殘余應(yīng)力是存在于材料本身內(nèi)部的應(yīng)力狀態(tài)。測量需要探測的是材料晶格的真實(shí)畸變,而不是覆蓋在其上的任何外來物質(zhì)。清洗確保測量的是材料本身,而非污染物層的應(yīng)力狀態(tài)。

    4.保證測量點(diǎn)定位準(zhǔn)確:污染物可能模糊或掩蓋需要測量的特定區(qū)域(如焊縫、熱影響區(qū)、加工痕跡等),影響定位精度。

    選擇清洗試劑的原則

    清洗的目標(biāo)是有效去除污染物,同時(shí)最小化對基體材料表面狀態(tài)的影響。選擇清洗試劑時(shí)需遵循以下核心原則:

    1.不引入新的應(yīng)力或損傷:

    *絕對避免機(jī)械方法:如研磨、噴砂、鋼絲刷、硬質(zhì)刮刀等。這些方法會通過塑性變形引入新的、嚴(yán)重的表面殘余應(yīng)力,完全掩蓋原有的殘余應(yīng)力狀態(tài),使測量結(jié)果無效甚至誤導(dǎo)。

    *避免強(qiáng)腐蝕性試劑:強(qiáng)酸(如鹽酸、硫酸、硝酸)、強(qiáng)堿(如高濃度氫氧化鈉)可能會腐蝕基體金屬表面,造成點(diǎn)蝕、選擇性溶解或形成新的表面層(如鈍化膜),改變表層材料的應(yīng)力狀態(tài)和晶體結(jié)構(gòu)。

    *避免導(dǎo)致氫脆:某些酸洗過程(特別是對高強(qiáng)度鋼)可能引入氫原子,導(dǎo)致氫脆風(fēng)險(xiǎn),并可能影響近表面應(yīng)力分布。

    *避免引起選擇性溶解:對于合金,強(qiáng)腐蝕劑可能導(dǎo)致某些元素優(yōu)先溶解,改變表面成分和應(yīng)力。

    2.有效去除目標(biāo)污染物:根據(jù)樣品表面的主要污染物類型選擇有針對性的清洗劑(油脂用溶劑,氧化膜用弱酸或電解等)。

    3.與基體材料兼容:必須考慮材料的化學(xué)性質(zhì)(如鋼、鋁、鈦、鎳基合金、鎂合金等)。不同的金屬對化學(xué)試劑的耐受性差異很大。例如,鋁合金對強(qiáng)堿敏感,不銹鋼對含氯離子溶劑敏感。

    4.易于徹底清除和干燥:清洗后,試劑本身及其反應(yīng)產(chǎn)物必須能被完全去除(通常通過大量流動(dòng)清水沖洗,再用無水乙醇或丙酮脫水),且樣品表面能快速干燥,不留殘留物或水膜。

    推薦的清洗試劑與方法(對大多數(shù)金屬材料通用)

    1.有機(jī)溶劑清洗(去除油脂、油污、指紋):

    *試劑:丙酮、無水乙醇、異丙醇。這些是最常用且最安全的首選。

    *優(yōu)點(diǎn):揮發(fā)快,無殘留,對絕大多數(shù)金屬無腐蝕性,能有效溶解有機(jī)污染物。

    *方法:浸泡、超聲波清洗、用無絨布(如鏡頭紙、實(shí)驗(yàn)室無塵布)蘸取溶劑反復(fù)擦拭。避免使用普通紙巾或布,以免留下纖維。清洗后務(wù)必在清潔空氣中自然干燥或吹干(如用干燥氮?dú)饣驘o油壓縮空氣)。

    2.堿性清洗劑清洗(去除頑固油脂、某些拋光膏):

    *試劑:市售的金屬專用堿性清洗劑(通常是氫氧化鈉、碳酸鈉、磷酸鹽、硅酸鹽等的溫和溶液),或自配低濃度(如5-10%)碳酸鈉溶液。

    *優(yōu)點(diǎn):對油脂乳化能力強(qiáng),對鋼鐵等材料相對安全。

    *注意:嚴(yán)格控制濃度、溫度和時(shí)間。清洗后必須用大量流動(dòng)清水徹底沖洗干凈,再用乙醇或丙酮脫水干燥。對鋁、鋅等兩性金屬慎用或禁用,除非清洗劑明確標(biāo)明兼容。

    3.弱酸性清洗或電解清洗(去除輕微氧化膜、銹斑):

    *試劑:極其謹(jǐn)慎使用!僅在必要時(shí),且優(yōu)先選擇非常弱的酸,如稀釋的檸檬酸溶液、乙酸溶液,或?qū)S玫?、溫和的金屬除銹劑。絕對避免使用強(qiáng)酸。

    *方法:

    *弱酸浸泡:時(shí)間要短(幾分鐘),濃度要低(如1-5%檸檬酸),并密切觀察。使用后必須立即用大量流動(dòng)清水徹底沖洗,再用乙醇/丙酮脫水干燥。

    *陰極電解清洗:在堿性溶液(如碳酸鈉)中,樣品作為陰極,通直流電。利用電解產(chǎn)生的氫氣氣泡剝離污染物。此方法比酸洗溫和,對表面損傷小,是去除氧化膜和頑固污漬的相對較好選擇,但需要專門設(shè)備。同樣需要徹底水洗和干燥。

    *重要提示:酸洗或電解清洗會改變表面狀態(tài)的風(fēng)險(xiǎn)較高,應(yīng)作為最后手段,并最好在經(jīng)驗(yàn)指導(dǎo)下進(jìn)行。清洗后務(wù)必檢查表面是否有點(diǎn)蝕、失光或過度活化。

    清洗流程建議

    1.初步清潔:用干燥、潔凈的空氣或氮?dú)獯祾呷コ缮⒒覊m、顆粒。必要時(shí)用軟毛刷輕輕掃除(僅限去除松散物,避免摩擦施力)。

    2.溶劑清洗:使用丙酮、乙醇等有機(jī)溶劑進(jìn)行浸泡、超聲或擦拭,去除油脂類污染物。更換干凈溶劑重復(fù),直至溶劑不再明顯變臟。

    3.(可選)堿性清洗:如果油脂頑固,進(jìn)行溫和的堿性清洗,徹底水洗,溶劑脫水干燥。

    4.(謹(jǐn)慎選擇)弱酸/電解清洗:僅在確認(rèn)存在輕微氧化膜且影響測量時(shí)采用,嚴(yán)格控制條件,徹底水洗和干燥。

    5.最終漂洗與干燥:用去離子水或蒸餾水徹底沖洗,再用無水乙醇或丙酮置換水分并加速揮發(fā)。確保樣品完全干燥,無任何殘留物或水痕。

    6.保護(hù)與存放:清洗干燥后,盡快進(jìn)行測量。如需短暫存放,應(yīng)放入干燥器或使用干凈的密封袋/容器,避免再次污染或氧化。測量前可再次用溶劑擦拭并干燥。

    總結(jié)

    必須清洗!清洗是殘余應(yīng)力(尤其是XRD法)測量前不可或缺的步驟,目的是暴露材料真實(shí)表面,確保X射線有效作用于基體材料并獲得準(zhǔn)確的晶格衍射信息。

    首選清洗劑:丙酮、無水乙醇、異丙醇等有機(jī)溶劑。它們安全、有效去除油脂、易揮發(fā)無殘留,對絕大多數(shù)金屬無不良影響。

    次選/特定情況:溫和的專用堿性清洗劑或低濃度碳酸鈉溶液可用于頑固油脂,但需徹底沖洗。弱酸(如檸檬酸)或陰極電解清洗可用于去除輕微氧化膜,但風(fēng)險(xiǎn)較高,需極其謹(jǐn)慎操作并徹底后處理。

    絕對禁止:任何形式的機(jī)械打磨、噴砂、刮擦以及使用強(qiáng)酸、強(qiáng)堿。

    清洗方法的選擇必須基于污染物類型和基體材料特性,并始終遵循最小化對表面狀態(tài)影響的最高原則。徹底去除清洗劑殘留并確保樣品完全干燥與避免污染同樣重要。

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