鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡(jiǎn)單說的話,靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料,金蒸發(fā)鍍靶材哪家好,不同功率密度、不同輸出波形、不同波長(zhǎng)的激光與不同的靶材相互作用時(shí),會(huì)產(chǎn)生不同的殺傷破壞效應(yīng)。

各種類型的濺射薄膜材料在半導(dǎo)體集成電路(VLSI)、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面都得到了廣泛的應(yīng)用。20世紀(jì)90年代以來,濺射靶材及濺射技術(shù)的同步發(fā)展,極大地滿足了各種新型電子元器件發(fā)展的需求。






在所有應(yīng)用產(chǎn)業(yè)中,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)對(duì)靶材濺射薄膜的品質(zhì)要求是苛刻的。如今12英寸(300衄口)的硅晶片已制造出來.而互連線的寬度卻在減小。硅片制造商對(duì)靶材的要求是大尺寸、高純度、低偏析和細(xì)晶粒,這就要求所制造的靶材具有更好的微觀結(jié)構(gòu)。靶材的結(jié)晶粒子直徑和均勻性已被認(rèn)為是影響薄膜沉積率的關(guān)鍵因素。另外,薄膜的純度與靶材的純度關(guān)系極大,過99.995%(4N5)純度的銅靶,或許能夠滿足半導(dǎo)體廠商0.35pm工藝的需求,但是卻無法滿足如今0.25um的工藝要求。

加工工業(yè)里鉬用得更廣泛。高溫下使用的模具受熱、機(jī)械交變應(yīng)力作用導(dǎo)致材料疲勞出現(xiàn)裂紋。而利用熱膨脹系數(shù)小,導(dǎo)熱強(qiáng)、高溫強(qiáng)度好的鉬或鉬基合金,亳州金蒸發(fā)鍍靶材,模具壽命大幅度延長(zhǎng)。壓鑄手表殼等精巧零件時(shí),壽命可達(dá)5000次,一般為3000次,軸承生產(chǎn)中鎢板,鉬板,鎢棒,鉬棒,鎢管,金蒸發(fā)鍍靶材加工,鉬管,鎢坩堝,鉬坩堝采用鉬合金模具比原高速鋼、軸承鋼模具壽命提高15倍。


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